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您現在所在的位置:產品中心 - 首頁 >> 離子捕捉劑系列產品 >> IXE離子捕捉劑

無機離子捕捉劑IXEPLAS
綜述:IXEPLAS是兼備優良的離子捕捉能力和耐熱性能的無機離子捕捉劑,比"IXE"的性能進一步提高。能夠提高封裝材料的可靠性,還能應用于以往產品難以應用的尖端半導體整體封裝材料中。
  • 特點
  • 用途
  • 規格

一、特點

☆ 屬于亞微米級材料,線路板封裝填充材料,也適用于狹窄間距密封 。
☆ 微粒子增加了其比表面積,少量添加即可發揮良好效果。
☆ 對銅離子和銀離子捕捉效果好,最適合銅焊線、銀配線的封裝。
☆ 雙離子交換型,能在較寬的PH值范圍發揮離子捕捉效果
☆ 雜質少,對封裝材料幾乎沒有不良影響
☆ 不包(bao)含RoHS限用物(wu)質(zhi)



二、工作機理

捕捉封裝材料中的(de)雜(za)質離子,提高(gao)電子材料的(de)可靠性(xing)



三、離子捕捉劑效果
● 在IC封裝材料中添加IXEPLAS,捕捉封裝材料中的雜質離子。
● IXEPLAS本身(shen)幾乎不釋放雜質(zhi)離(li)子。



四、應用舉例
對鋁制配線腐蝕的抑制
● 在封裝樹脂中添加IXEPLAS抑制配線的腐蝕,具有提高可靠性的效果
● 粒徑更小,少量添加即可發揮良好效果。

                             鋁制配線的(de)腐蝕試驗

                 
                    
無添(tian)加                                     IXEPLAS-A1 0.2部

◆鋁制配線的電阻上升率
    在半導體整體封裝時,由于封裝樹脂中的游離的氯離子會腐蝕配線,因此,配線的電阻上升。
    在封裝樹脂中添加IXEPLAS,可以捕捉氯離子,抑制腐蝕,電阻值幾乎沒有上升。


試驗條件:
● 在雙酚環氧樹脂中添加IXEPLAS,在鋁制配線上涂覆、硬化(配線寬度20μm、配線間距20μm)。
● 在130度,85%RH,20V條件下進行Pressure Cooker Test 試驗, 觀察20小時后鋁制配線的狀況。

抑制銅配線的遷移抑制試驗
● IXEPLAS對銅離子的捕捉效果好,能夠抑制銅離子的遷移
● 最適合銅 Bonding Wire(電極線?)和銅配線的封裝。
● 對銀布線的遷移具有抑制效果

                                  
銅配線的遷移抑制試驗

                        
                  無添(tian)加                                                     IXEPLAS-A1 2.0部

試驗條件
● 環氧丙烯酸酯+聚氨酯丙烯酸酯98份,IXEPLAS-A1 2份
● 配線寬度50μm,配線間距50μm
● 耐濕負荷試驗 (85℃,85%RH,50V,500小時)